Atomic layer deposition (ALD)
Recent publications from Nanotechnology group
Ylivaara, O.M.E.; Liu, Xuwen; Kilpi, L.; Lyytinen, Jussi; Schneider, D.; Laitinen, M.; Julin, J.; Ali, S.; Sintonen, S.; Berdova, Maria; Haimi, Eero; Sajavaara, T.; Ronkainen, H.; Lipsanen, H.; Koskinen, Jari; Hannula, Simo-Pekka; Puurunen, R.L. 2014
Thin Solid Films 552 (3): s. 124-135
Häyrinen, Markus; Roussey, Matthieu; Gandhi, Vishal; Stenberg, Petri; Säynätjoki, Antti; Karvonen, Lasse; Kuittinen, Markku; Honkanen, Seppo 2014
Low-loss titanium dioxide strip waveguides fabricated by atomic layer deposition
Journal of Lightwave Technology 32 (2): pp. 208-212
Khanna, Amit; Subramanian, Ananth; Häyrinen, Markus; Selvaraja, Shankar; Verheyen, Peter; Van Thourhout, Dries; Honkanen, Seppo; Lipsanen, Harri; Baets, Roel 2014
Optics Express 22 (5): 5684 - 5692
Putkonen, M.; Bosund, M.; Ylivaara, O.M.E.; Puurunen, R.L.; Kilpi, L.; Ronkainen, H.; Sintonen, S.; Ali, S.; Lipsanen, H.; Liu, Xuwen; Haimi, Eero; Hannula, Simo-Pekka; Sajavaara, T.; Buchanan, I.; Karwacki, E.; Vähä-Nissi, M. 2014
Thermal and plasma enhanced atomic layer deposition of SiO2 using commercial silicon precursors
Thin Solid Films 558 (-): s. 93-98
Mattila, Päivi; Bosund, Markus; Jussila, Henri; Aierken, Abuduwayiti; Riikonen, Juha; Huhtio, Teppo; Lipsanen, Harri; Sopanen, Markku 2014
Properties of atomic-layer-deposited ultra-thin AlN films on GaAs surfaces
Applied Surface Science (314): 570-574
Sintonen, Sakari; Ali, Saima; Ylivaara, Oili M.; Puurunen, Riikka L.; Lipsanen, Harri 2014
Journal of Vacuum Science & Technology. A: International Journal Devoted to Vacuum, Surfaces, and Films 32 (1): 01A111-1 - 01A111-4